1. レジンの準備
プロトコル1に従って、Rinkアミドレジンの約50 mg分(20 µmol、約0.4 mmol / g)を用意し、プロトコル2に従ってブロモ酢酸を用いてアシル化します。
2. a) N-置換アリールスルホンアミド誘導体を用いて室温で臭素と置換する方法
ブロモアセチル化オリゴマー 50
mg分を導入したレジンをDMF中で10分間膨潤させます。
Ns 基で保護された1 mLのDMF中のサブモノマー(12当量)とCs2CO3 (18当量)
を2分間混合し、その後室温で1時間、レジンとサブモノマー溶液を撹拌します。
この手順を繰り返し、DMF (30秒× 3回)、水(30秒× 3回)、30%水 / THF (30秒× 3回)最後に再びDMF(30秒× 3回)で洗浄します。
2. b) マイクロ波照射下でN-置換アリールスルホンアミド誘導体を用いて臭素と置換する方法
マイクロ波バイアル中で、ブロモアセチル化オリゴマー 50 mg分を導入したレジンをDMF中で10分間膨潤させます。
1 mLのDMF中のNs 基で保護されたサブモノマー(8当量)とCs22CO3 (8.8当量)
を2分間混合した後、マイクロ波合成装置にこのサブモノマー溶液を移し70℃で2分間反応します。
レジンを濾過し、DMF(30秒× 3回)、水(30秒× 3回)、30%水 / THF(30秒×
3回) で洗浄し、最後に再びDMF(30秒× 3回)で洗浄します。
2. c) マイクロ波照射下でN-置換アリールスルホンアミド誘導体を用いて嵩高いα-置換サブモノマーを臭素と置換する方法
マイクロ波バイアル中で、ブロモアセチル化オリゴマー 50 mg分を導入したレジンをDMF中で10分間膨潤させます。
Ns 基で保護されたサブモノマー(12当量)とCs2CO3 (18当量) とを1 mLのDMF中で2分間混合し、マイクロ波合成装置にこのサブモノマー溶液を移し70℃で2分間反応します。
レジンを濾過し、DMF(30秒× 3回)、水(30秒× 3回)、30%水 / THF(30秒×
3回) で洗浄し、最後に再びDMF(30秒× 3回)で洗浄します。
3. ノシル基の脱保護
レジンに結合したo-NBS保護されたオリゴマーを室温で10分間、DMF(1mL)中にp -メトキシベンゼンチオール(15当量)とDBU(20当量)を加えた溶液で処理し、DMF(30秒x
5回)でレジンを洗浄します。
2及び3の手順を繰り返しペプトイドを伸長させます。
4. レジンからの切り出し
ペプトイドオリゴマーが結合したレジンをTFA(Trifluoroaceticacid, トリフルオロ酢酸)/水/TIPS(Triisopropylsilane, トリイソプロピルシラン)の95:2.5:2.5の混合溶液で1時間処理します。
レジンを濾別し、CH2Cl2で5回洗浄した後減圧によって溶媒を留去します。
エタノール沈殿と遠心分離によって粗生成物と上清を分ける作業を3回繰り返した後、真空によって乾燥します。